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理检图5电子束辐照下MoS2孔洞修复过程的HRTEM图像MoS2原位修复的HRTEM图像。(b)-(c)Disconnection1从三叉晶界处形核并在GB2上滑移，修申导致相应的晶界迁移。与红色箭头标记的原始界面相比，请单全覆新的催化剂/纳米线界面向纳米线侧移动。

实现涉及MoS2和碲化铋Bi2Te3是二维硫族化物采用的两种最常见的结构类型。原子更倾向于附着在被大量通道包围的空位上，华东化办在那里更容易形成能量较低的稳定六方晶格，相应的修复机制如图(o)-(u)所示。

实验中的器件装置由覆盖Si3N4的硅衬底支撑，电网单位使用的双层石墨烯片从天然石墨上剥落。

网络(h)-(n)从327到740s（修复结束）的修复过程。利用同步辐射技术来表征材料的缺陷，理检化学环境用于机理的研究已成为目前的研究热点。

此外，修申越来越多的研究工作开始涉及了使用XAS等需要使用同步辐射技术的表征，而抢占有限的同步辐射光源资源更显得尤为重要。限于水平，请单全覆必有疏漏之处，欢迎大家补充。

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